「未來詩篇,技藝的筆觸和留白——科技藝術新樣貌」展覽在中國美術館展出
【香港大公文匯全媒體記者張寶峰北京報道】由中國美術館策劃並主辦的「未來詩篇,技藝的筆觸和留白——科技藝術新樣貌」展覽近日在北京與觀眾見面。
本次展覽展出8位當代青年藝術家的創作實踐,集中呈現他們將科技融入藝術創作的探索。展品涵蓋裝置、數字沉浸裝置等多種媒介形態,既有從傳統山水精神中蛻變而出的數字意境,也有直面人工智能技術的思辨。
圍繞「傳統藝術語言的當代轉化」與「文明視覺表徵的智能化演繹」等命題,參展作品展開多維度的實驗與深度挖掘。藝術家們藉助科技手段,在建構詩性藝術語言的同時,積極探索中華文明母題的當代表達路徑。
中國美術館始終關注並引導科技與藝術的深度融合。此次展覽不僅是一場「技術+藝術」的創新成果展示,更是一場關於未來藝術可能性的學術探討。觀眾可感知科技與藝術交融共生的發展趨勢,暢想二者協同塑造的未來文化圖景。
展覽由中國美術館展覽部柳淳風、李暨涵擔任策展人,各部門通力協作。展覽呈現在中國美術館一層7號廳,展出至1月30日(周一閉館)。

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